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天眼查APP顯示,近日,江蘇微導(dǎo)納米科技股份有限公司申請的“沉積設(shè)備和沉積方法”專利公布。 摘要顯示,本申請公開了沉積設(shè)備和沉積方法。沉積設(shè)備包括外殼、內(nèi)殼、承載支架和出氣組件。內(nèi)殼設(shè)置于外殼的內(nèi)部,內(nèi)殼與外殼之間形成有外腔,內(nèi)殼內(nèi)部形成有內(nèi)腔。承載支架包括支撐軸,支撐軸部分位于內(nèi)腔部分位于外腔。出氣組件設(shè)置于外腔,用于控制外腔的壓力。其中,內(nèi)殼設(shè)置有讓位孔,支撐軸穿設(shè)讓位孔,讓位孔連通外腔和內(nèi)腔。通過上述方式,本申請能夠改善沉積設(shè)備的鍍膜質(zhì)量。